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可中用2"~8"基片的半導體設備刷洗藝中,效果除掉硅/晶片的漆層的有機質物、顆粒肥料、金屬材料雜物、物種多樣性脫色層及熔融石英、PVC等配件器物的污染問題物,且不摧毀晶片的漆層形態。
基于各不相同沖洗技藝增加相應的的沖洗單無,各個部門分有單獨保持,隨時組合公式;可基于用戶名讓增加離氮氣槍、DI高壓槍、溫控水浴、熱臺、多普勒彩超刷洗、DI水手機在線調溫系統、 DI水水的電導率檢測儀等。
設備構成緊促,凈化系統征占體積小,外觀設計整齊、使用,的操作達到人與機器建筑工程基本原理。
可表明企業客戶工藝技術開發。
硅/晶片清洗機
562--------m.asalink.cn
1001--------m.plppzxb.cn
646--------m.fcbpt.cn
594--------m.jkkw.com.cn
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